联发科表态:下一代芯片独家采用英特尔 EMIB-T 封装,预计 2027 年 Q4 量产
阅读原文· ithome.com联发科宣布其下一代芯片将独家采用英特尔的 EMIB-T 先进封装技术,取代台积电的 CoWoS 方案。该项目计划于 2026 年第四季度流片,并在 2027 年第四季度进入量产。EMIB-T 技术通过嵌入式硅桥连接组件,旨在降低制造复杂度和成本。英特尔为该工艺设定了 98% 的良率目标,当前验证良率约为 90%。谷歌的下一代 TPU 也在评估采用 EMIB-T。
IT之家 6 月 2 日消息,在 COMPUTEX 2026 期间举行的高盛日活动上,联发科宣布其下一代芯片将仅采用英特尔的 EMIB-T 先进封装技术,不再使用台积电的 CoWoS 方案。
联发科在会议中透露,该下一代芯片项目的流片(tape-out)目标定于 2026 年第四季度,并计划在 2027 年第四季度进入量产阶段。
高盛指出,联发科企业级 ASIC 业务进展超出预期,次世代芯片设计复杂度大幅提升,将全面采用 EMIB-T 等先进封装技术,预计今年 Q4 送样、2027 年第四季度量产。尽管目前尚不清楚这一项目具体涵盖哪些芯片,但业内普遍认为会涉及定制 AI 芯片和 CPU。
英特尔将 EMIB 定位为台积电 CoWoS 的直接竞争方案。两者的技术路径存在显著差异:CoWoS 采用大面积硅中介层(interposer)来连接不同组件,而 EMIB 则选择性地通过嵌入式硅桥(silicon bridge)连接 GPU 核心与内存等组件。
英特尔宣称,去除中介层这一设计能够降低制造复杂度和整体成本。除联发科外,谷歌的下一代 TPU 定制 AI 芯片也在评估采用 EMIB-T 进行封装的可能性。
郭明錤指出,英特尔已将 98% 的良率设定为 EMIB-T 工艺的基准,目的是使其生产成熟度能够与倒装芯片球栅阵列(FCBGA)工艺相媲美。谷歌方面也将密切关注 EMIB-T 的良率表现,因为这直接关系到其在与英伟达竞争中的成本优势 —— 更高的良率意味着每批次可用的芯片更多,从而降低单颗芯片的生产成本。根据此前的供应链报道,英特尔 EMIB-T 先进封装的当前验证良率约 90%,但距离 98% 的量产标准仍有明显差距,从 90% 跨越至 98% 的难度被认为远大于从零起步的阶段。